为提高研发人员整体素质，增强研发人员对理论知识的掌握程度，提高研发中心科研创新力，营造勤学善思的研发氛围，9月14日，兰州金川科技园有限公司组织开展了2023年第9期“知识大讲堂”活动。授课研发人员做了题目为“化学气相沉积（CVD）工艺原理及实践”的报告分享，报告从CVD基本原理、反应类型、CVD装置、CVD应用等方面深入浅出的介绍了化学气相沉积的内容。